半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法
工程蓝本
该产业发展园众多了十余家半导体芯片有关系商家公司,设置日净化工作性能5000吨,应该净化工作原于不同于商家公司的比调焦化废水补救方法。由各商家公司生产方式加工制作工艺 相互影响大,焦化废水补救方法物质繁杂变化无常,净化工作一定难度较高。
废液含量及渠道
化工污水处理方法最主要是指3个类:高脱色还原电位生产肥料化工污水处理方法(光刻胶、显影液液等)、含氟化工污水处理方法(刻蚀制作工艺)和酸碱度化工污水处理方法(洗掉制作工艺)。比较特殊组成成分是指异丙醇、四甲基氢脱色铵等难溶解生产肥料物,或是氟化物、氟化物等三聚氰胺树脂危害物。化工污水处理方法COD起伏大(500-3000mg/L),氟化物脱色还原电位100-500mg/L,氟化物50-150mg/L。
加工处理工序步奏
通过"各类整理+分质办理+汇集纵深办理"的研发的模式:
工厂内部人员划分类别预解决:含氟废水办理方法单单获取并预解决
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既定实际效果
软件系统作业两年来,处理效用稳固不靠谱。出液COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,氟化物<5mg/L,总氮<15mg/L,完成地下水Ⅳ类规定,局部工业废水处理于工业工业园区园林景观及密闭式冷却塔塔保湿补水,工业废水处理率超过了30%。几乎每年减掉生鲜水采用约70万吨,为工业工业园区企业节约开支水电费百余万。