某半导体设备手工制造厂家因晶圆清洁工作加工过程出现含氨废水操作方法，供水量200吨/天。废水操作方法中除高锰酸盐指数外还包含有氟化物和进样器巨资属，操作困难大。地方直接排放化符合要求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废污水化学物质及由来 晶圆洗污水（主要的渠道）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程化工废水：含微量分析铜、镍等血本属，pH值上下波动大 CMP磨细焦化废水：含硅粒子及挥发酚 加工环节环节 利用"电化学石雕文化沉淀+膜分离处理+折点氯化"组合公式技艺： 预加工处理 ：添加CaCl2除氟，管理pH在7.5-8. 超滤膜平台 ：删去0.01μm这些小粒物 ro反渗透性高浓 ：将氟化物浸提至1000mg/L以内 折点氯化 ：准确调节氯加药系统量，将化学需氧量转换成为氢气 阳离子变换 ：得到保障天价属及格 终于郊果 高锰酸盐指数平稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属浓度低过论文检测限 水回收率达75% 飞灰存在量极大减少40%