工作背静 重庆某半导厂制作全过程中同一产生高硅生产生产废水处理方法（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟生产生产废水处理方法（F⁻ 200-300mg/L）。不同生产生产废水处理方法交织易于转变成氟硅酸胶体溶液，普通化学石雕文化沉淀法难平衡标准规范。产品符合要求云同步避开硅和氟（尾气废水排放标准规范：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 污水化学物质及由来 一般材质 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 来源地 ：晶圆刻蚀废气、CMP研磨抛光废气、装置清洗水 治理加工制作工艺 步奏 信息化积累的时候 ： 二级症状池 ： 第1 级加药系统Ca(OH)₂添加CaF₂和CaSiO₃沉淀出的； 第二点级加药系统PAC（聚合反应氯化铝）強化斜板沉淀池。 固液脱离阶段中， ： 超滤膜系统软件 ：使用0.02μm孔直径膜应用程序截流氢氧化铁硅和微细乳浊液物。 广度脱氟阶段性 ： 渗透性空气氧化铝粉粘附塔 ：的残留物氟铝离子吸出删去。 终究作用 有水出SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远相对比较国家要求。 反渗透膜系統通量比较稳定在15LMH，检查是否家电清洗生长期不断增加至60天。 污泥干化经压滤后含水分率＜65%，可按基本上废弃物处理。