该厂为国际英文知名度光电器件封装形式测试仪单位，生产加工工作中引发过量含光刻胶、树脂材料等最高大分子生物碳物的工业废水，一般方式 加工成果差，急需要提升整改。 废水处理工艺基本特征概述 主要是被污水排放： 激光切抛光废水处理方法 ：含硅粉、浮悬物（SS>500mg/L） 去胶废水处理 ：含光刻胶残存物（COD独角兽高达8000-12000mg/L） 化学镀生活污水 ：进样器金、银等贵重金属材料阳离子 除垢废水处理方法：含氟化物（50-200mg/L） 改革创新治疗工艺设计 应用"最高级氧化物+MBR"组合构成高技术： 预除理象限 ： 旋流石雕文化沉淀剔除大粉末硅粉 化学工业除氟（污泥脱水氯化钙确立氟化钙沉淀出的） 核心思想解决模块 ： Fenton阳极氧化（H2O2/Fe2+）分解掉大团伙无机物物（COD彻底清除率60-70%） UASB好氧菌不良流化床反应器进一歩分解（COD清除率>80%） MBR膜生物体体现器（PVDF弧形纤维材料膜，管径0.1μm） 工业废水处理整体 ： 反渗裝置产水循环于生产方式线（循环率>65%） 执行效益 操作内外水质监测比较（平均）： COD从9500mg/L下降45mg/L 氟化物从180mg/L下降8mg/L SS从480mg/L减少为5mg/L 程序半机械度高，1吨水正确处理直接费用较原制作工艺减低22%，荣获省级重点净化生产销售操作示范建设项目。